北京中研環(huán)科
圍繞科研 服務(wù)科研
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介
高溫高壓紅外漫反射裝置（HTHP-DRIFTS-500）是該原位裝置適配公司生產(chǎn)的漫反射光路系統(tǒng)，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測(cè)試；
該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺(tái)、樣品架、隔熱層、加熱體等多個(gè)部件及相關(guān)配件。
該裝置各個(gè)部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測(cè)量，位于樣品下方保證溫度測(cè)量的準(zhǔn)確性。裝置最終采集的溫度通過(guò)專(zhuān)門(mén)的應(yīng)用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數(shù)據(jù)。
如圖1.1所示高溫高壓紅外漫反射系統(tǒng)主要包括：池體 + 高溫加熱系統(tǒng) + 氣體保護(hù)系統(tǒng) + 水冷循環(huán)系統(tǒng) + 溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（電腦即可）等多個(gè)部件及相關(guān)配件；
裝置采用臺(tái)式加熱系統(tǒng)，樣品臺(tái)加熱溫度范圍：RT-500℃，溫度控制精度：±1℃；
采用Pt100溫度傳感器作為溫度探測(cè)器，并置于加熱臺(tái)內(nèi)部，樣品正下方處；
裝置主體采用316L不銹鋼制作，具備一定的強(qiáng)度和耐腐蝕性；
樣品臺(tái)頂部配備三個(gè)窗口，分別是紅外窗口2個(gè)和可見(jiàn)光窗口1個(gè)；
裝置可進(jìn)行充氣處理，并可承受一定壓力，壓力調(diào)節(jié)范圍：1-30bar；
配備溫度控制器和水冷裝置，用于控制腔體的加熱溫度和整個(gè)裝置的表面溫度，其中表面溫度不高于60℃；
該裝置各個(gè)部件合理選型，保證良好的密封性；
裝置最終采集的溫度通過(guò)專(zhuān)門(mén)的應(yīng)用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數(shù)據(jù)。
三、工作原理如下圖所示
北京中研環(huán)科科技有限公司
電話/傳真：010-83601911 總部地址：北京市豐臺(tái)區(qū)科學(xué)城星火路10號(hào)2幢7層716
技術(shù)支持： 010-83601911 公司郵箱：hp@bjscistar.com
郵 編： 100070 公司網(wǎng)址: wawastamp.cn
