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主要技術(shù)參數(shù)：

1、裝置系統(tǒng)主要包括主體反應(yīng)腔、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)裝置等多個(gè)部件及相關(guān)配件；

2、主體真空反應(yīng)腔室內(nèi)部按照高真空要求進(jìn)行處理，加熱爐及隔熱層均適用于高真空環(huán)境使用，加熱爐采用環(huán)場(chǎng)加熱方式對(duì)樣品中心處進(jìn)行加熱，保證樣品處的溫度均勻；

3、常用溫度控制范圍：RT-500℃，溫度控制精度：±1℃；

4、原位裝置通光孔徑為φ22mm，樣品直徑為φ15.5mm。