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北京中研環(huán)科

圍繞科研 服務(wù)科研

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北京大學(xué)/上硅所黃富強教授團隊《AM》:結(jié)合能驅(qū)動的原子剪刀實現(xiàn)超快鈉存儲
來源: | 作者:中研小研 | 發(fā)布時間: 2022-11-30 | 789 次瀏覽 | 分享到:






關(guān)鍵詞:原子剪刀;GeTiS3;鈉離子電池; 電容貢獻;超高倍率


鈉離子電池因其成本低廉、資源充足,被譽為實現(xiàn)“雙碳”目標(biāo)的核心儲能技術(shù)之一,已經(jīng)被列入國家十四五規(guī)劃的重點優(yōu)先發(fā)展方向。目前發(fā)展高能量密度、高功率密度的鈉離子電池受限于高性能關(guān)鍵電極材料,開發(fā)具有高倍率和高容量(“雙高”)的鈉離子電池負極材料尤為重要。相比于發(fā)展成熟的鋰離子電池負極,鈉離子電池負極研究還不夠深入,“雙高”負極材料類型目前稀缺。

在鈉離子負極中合金化型材料(Si、Ge、Sn等)具有極高理論容量,然而其在嵌/脫鈉過程中產(chǎn)生巨大的體積膨脹/收縮,導(dǎo)致負極顆粒粉化、容量快速衰減。文獻報道的常見解決策略為引入高導(dǎo)電碳材料(石墨烯、CNT 等)第二相作為緩沖層,可以顯著改善其電化學(xué)性能,然而此類技術(shù)難以實際應(yīng)用到鈉離子電池的產(chǎn)業(yè)化中。

從理論上講,將Si、Ge、Sn等納米顆粒尺寸減小到原子水平、并分散到空曠導(dǎo)電結(jié)構(gòu)中,可最大限度利用其儲鈉容量并保持優(yōu)異循環(huán)特性。然而,傳統(tǒng)物理限域法難以報紙實現(xiàn)原子簇尺度制備,導(dǎo)致在抑制納米點體積變化的效果仍有待提高,另外該法對于高倍率性能的提升并不顯著。為提高合金化負極的循環(huán)穩(wěn)定性以及高倍率性能,作者提出了一個理想的設(shè)計策略,即將原子級分布的硅/鍺/錫引入結(jié)構(gòu)空曠的剛性導(dǎo)電框架中,通過調(diào)整化學(xué)鍵強弱,優(yōu)化晶體結(jié)構(gòu)排列,最終構(gòu)建具有高容量、高倍率、高穩(wěn)定性的的新型合金化負極材料。

近期,北京大學(xué)、上硅所黃富強教授團隊與天津理工大學(xué)董辰龍博士在《Advanced Materials》期刊發(fā)表了題為“Tailoring Ultrafast and High-Capacity Sodium Storage via a Binding Energy-Driven Atomic Scissor”的文章(DOI: 10.1002/adma.202200863)。論文第一作者為上硅所博士彭柏鑫、呂卓然、許樹茂。論文工作得到國家重點研發(fā)計劃項目(No. 2019YFA0210600)、國家自然科學(xué)基金(No. 51922103,No. 51972326)的支持。

該工作成功構(gòu)建了一種具有高容量、高倍率性能的鈉離子電池負極材料GeTiS3。原子級Ge為“化學(xué)剪刀”實現(xiàn)其在Ti?S框架中的均勻分散。結(jié)合了Ge基負極材料高容量以及TiS2負極材料高倍率的特性。在低電流下可逆容量達到提供 678 mAh g-1,在32 C超高倍率下循環(huán)10000次容量保持率接近100%。該負極材料的結(jié)構(gòu)設(shè)計策略可以推廣到Si、Sb、Sn等合金化型負極材料設(shè)計和制備中。

本文要點

要點一:GeTiS3負極材料的設(shè)計合成及結(jié)構(gòu)表征

圖1 GeTiS3設(shè)計思路以及結(jié)構(gòu)表征

GeTiS3的晶體結(jié)構(gòu)由封端Ge原子和邊共享的TiS6八面體組成,形成雙鏈結(jié)構(gòu)(圖1a)。掃描電子顯微鏡(SEM)表明得到的GeTiS3呈現(xiàn)微米級的棒狀形貌(圖1b-c)。在圖1d中,沿[100]區(qū)域軸的SAED圖顯示出不同的衍射點,這些衍射點對應(yīng)到正交GeTiS3的(0-13)、(0-11)、(0-1-1)和(004)面。沿[100]方向的ADF和ABF成像表明,局域原子分布和晶體結(jié)構(gòu)與正交GeTiS3相一致(圖1e-f)。圖1g對應(yīng)的強度分布也與圖1 h所示晶體結(jié)構(gòu)一致。


要點二:GeTiS3負極材料的儲鈉性能

圖2 GeTiS3的電化學(xué)性能測試

對比GeTiS3、TiS2和Ge-C,在0.3C的電流密度下,GeTiS3表現(xiàn)出最高的容量646.8mAhg-1 (圖3a)。此外,GeTiS3表現(xiàn)出更優(yōu)的倍率性能,在16C下,仍保持227mAhg-1。在電流密度為3、8、16和32C時,GeTiS3負極表現(xiàn)了出色的長循環(huán)性能(圖3c-e)。為了進一步探究GeTiS3的反應(yīng)動力學(xué),在0.2 ~ 2.5 mV s-1的掃描速率下進行了CV測試(圖3f)。對應(yīng)的log(i)和log(v)之間進行線性擬合,峰1和峰2的b值分別為0.86和0.53,表明GeTiS3負極在1.5 V和2.1 V時分別表現(xiàn)出了贗電容和擴散控制的行為(圖3g)。在掃描速率為1 mV s-1時,CV曲線的陰影部分占總?cè)萘康?7%(圖3h)。在循環(huán)過程中贗電容和擴散控制共存,然而大多數(shù)Na+在GeTiS3中的存儲可以歸因于擴散控制過程(圖3i)。圖3j所示,GeTiS3的Na+擴散系數(shù)最大為9.1 × 10-11 cm2 s-1。電化學(xué)阻抗譜(EIS)進一步表明GeTiS3具有比Ge-C、Ge-TiS2和TiS2更小的電荷轉(zhuǎn)移電阻(圖3k),表明GeTiS3具有增強的反應(yīng)動力學(xué)。


要點三:GeTiS3負極材料的儲鈉機理

圖3. GeTiS3原位/異位電化學(xué)表征




在0.01-2.5 V電壓范圍內(nèi)對GeTiS3進行CV測試,詳細研究反應(yīng)機理(圖4a)。位于2.11/1.97 V的CV峰對應(yīng)GeTiS3 + xNa+ + xe- = NaxGeTiS3,峰位于1.54/1.46 V和0.96/0.78 V,對應(yīng)的是兩步氧化還原反應(yīng)NaxGeTiS3 + (3-x)Na+ + (3-x)e- = (GeNa3)TiS3,在第一個循環(huán)位于0.63 V的峰可以歸因于固體電解質(zhì)界面(SEI)膜,此外,位于0.35 V的小峰與合金化反應(yīng)有關(guān),表明形成了NaxGe合金。為進一步研究GeTiS3的電化學(xué)反應(yīng)機理,進行首圈的原位拉曼和原位XRD測試。第一階段,GeTiS3的拉曼峰在59.6、80.1和97.2 cm-1處紅移(圖4 b),與此同時,GeTiS3的XRD峰的(204)在33.3°,(212)在34.8°,(205)在38.9°逐漸向較低的2θ角偏移(圖4 c),這表明由于Na插入GeTiS3形成NaxGeTiS3發(fā)生晶格擴張。在第二階段,在97.2 cm-1處的拉曼峰逐漸減弱,表明Ge-S化學(xué)鍵斷裂(圖4b)。Ge-S振動信號在第三階段幾乎完全消失。然而,當(dāng)充電到2.5 V時,這些信號再次增強,證實了Ge-S鍵的熱力學(xué)重構(gòu)。在第二階段,在40.1°和47.5°處出現(xiàn)了兩個新的XRD峰(圖4c),分別對應(yīng)到NaxTiS3的(013)和(211)面。在第三階段,在46.9°處出現(xiàn)了一個新峰(圖4c),對應(yīng)NaxGe的(223)面。在第四階段,NaxGe的特征XRD峰逐漸消失(圖4),對應(yīng)于去合金化過程。非原位高分辨率透射電子顯微鏡(HRTEM)也證實了此相演化過程。當(dāng)GeTiS3首圈放電到在0.01 V,出現(xiàn)NaxGe(411)面的晶格條紋,并且納米顆粒均勻分布在Ti-S基體中(圖4d-f)。d間距為0.24 nm和0.42 nm的晶格條紋分別對應(yīng)NaxTiS3的(11-2)和(101)面 (圖4g)。因此,可以得出NaxGe合金顆粒在放電結(jié)束時形成并分布在Ti-S基體中。當(dāng)GeTiS3被充電到2.5 V時,深色顆粒消失(圖4h和j),d間距為0.34 nm和0.21 nm為GeTiS3的(011)面和NaxTiS3的(11-3)面(圖4i,k),表明GeTiS3負極具有較高的可逆性。整個反應(yīng)過程為:

GeTiS3+xNa++xe-→NaxGeTiS3        (1) 

NaxGeTiS3+(3-x)Na++(3-x)e-→(GeNa3)TiS3         (2)   

(GeNa3)TiS3+(1+y)Na++(1+y)e-→ Na1+yGe + Na3TiS3         (3)


原文鏈接:

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adma.202200863


作者介紹:

黃富強,北京大學(xué)博雅特聘教授,中科院上海硅酸鹽研究所研究員,博士生導(dǎo)師,國家杰出青年基金項目獲得者,中國化學(xué)會能源化學(xué)專業(yè)委員會主任,科技部重點領(lǐng)域創(chuàng)新團隊負責(zé)人,萬人計劃創(chuàng)新領(lǐng)軍人才,國家重點研發(fā)計劃項目首席科學(xué)家;團隊年輕學(xué)者獲得國家優(yōu)秀青年科學(xué)基金、中科院青年創(chuàng)新促進會優(yōu)秀會員、上海市青年拔尖人才計劃、上海市啟明星計劃等人才項目、國家"博新計劃"、中科院超級博士后計劃、上海市超級博士后計劃等青年人才計劃資助,共承擔(dān)國家NSFC項目20余項目。研究團隊在Science, Nat. Phys., Nat. Mater., Adv. Mater., JACS, Angew. Chem. Int. Ed., Nat. Commun.等期刊發(fā)表論文600余篇;曾承擔(dān)國家重點研發(fā)計劃、十三五xxx重點項目、科技部973和863等重點項目;中國發(fā)明專利授權(quán)120余項,國外發(fā)明專利授權(quán)20余項。

董辰龍,天津理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院講師,博士畢業(yè)于北京大學(xué)化學(xué)學(xué)院,累計在Adv. Mater., Adv. Funct. Mater., J. Mater. Chem. A, Small等期刊發(fā)表論文40余篇,累計他引670余次。

研究團隊主頁:http://www.skl.sic.cas.cn/yjly/nyhj/hfq/sy/