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北京中研環(huán)科

圍繞科研 服務(wù)科研

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原位高低溫漫反射裝置（HLT-DR-N）
    發(fā)布時(shí)間: 2022-09-07 14:46    

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

原位高低溫漫反射裝置（HLT-DR-N）是一款專門為低溫條件下利用紅外漫反射模式來探測(cè)樣品結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位裝置。該原位裝置匹配中研環(huán)科漫反射光路或HARRICK漫反射光路，可實(shí)現(xiàn)光催化在低溫下的反應(yīng)監(jiān)測(cè)。該裝置主要包含有主體原位池、溫控系統(tǒng)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用液氮制冷對(duì)低溫樣品進(jìn)行制冷，通過熱傳導(dǎo)的制冷方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，溫度范圍為-170℃-300℃該原位裝置十分適用于不同材料在低溫下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。

原位高低溫漫反射裝置（HLT-DR-N）

二、主要特點(diǎn)：


1. 原位高低溫紅外漫反射裝置適用于低溫環(huán)境下粉末樣品的多相催化反應(yīng)、表面反應(yīng)以及光催化反應(yīng)等的紅外在線檢測(cè)；

2. 該原位裝置主要包括主體原位池（內(nèi)置制冷組件）、液氮制冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)等多個(gè)部件及相關(guān)配件；

3. 該原位裝置適配HARRICK漫反射光路系統(tǒng)，也可依據(jù)客戶現(xiàn)有光路進(jìn)行調(diào)整適配；

4. 樣品可為粉末樣品，直接放置在冷臺(tái)上；

5. 該裝置采用液氮制冷對(duì)樣品進(jìn)行制冷，采用熱傳導(dǎo)的方式對(duì)樣品進(jìn)行加熱，保證樣品處的溫度均勻；

6. 溫度控制范圍：-170-300℃；控制精度：±1℃，采用程序控制；

7. 樣品臺(tái)采用銅加工而成，溫度探測(cè)器為Pt100，置于冷臺(tái)邊；

8. 裝置采用藍(lán)寶石窗口片，硒化鋅作為可見光窗，能夠承受不高于1 個(gè)大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境。