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二、主要特點：

1. 原位高低溫XRD 反應(yīng)裝置適用于低溫環(huán)境下粉末樣品的物相結(jié)構(gòu)追蹤、監(jiān)測；

2. 該原位裝置主要包括主體原位池（內(nèi)置制冷組件）、液氮制冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)等多個部件及相關(guān)配件；

3. 該原位裝置可適配各品牌商業(yè)X射線衍射儀的光路系統(tǒng)，也可依據(jù)客戶現(xiàn)有光路進行調(diào)整適配；

4. 樣品可為粉末樣品，直接放置在冷臺上；

5. X射線探測角度范圍：5<2θ<160°；

6. 該裝置采用液氮制冷對樣品進行制冷，采用熱傳導(dǎo)的方式對樣品進行加熱，保證樣品處的溫度均勻；

7. 溫度控制范圍：-180-300°；控制精度：±1℃，采用程序控制；

8. 樣品臺采用銅加工而成，溫度探測器為Pt100，置于冷臺邊；

裝置窗口標配高分子球，能夠承受不高于1 個大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境；也可選擇付費金屬鈹球，承受不同氣壓。