北京中研環(huán)科
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一、產品簡介
原位高溫衍射反應裝置（HT-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結構變化而設 計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等 多個部件及相關配件。采用環(huán)境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點，最高使用溫度1000℃，常 用使用溫度范圍：RT-900℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結 構研究，是材料科學領域、能源化學領域等眾多研究領域的有力輔助手段之一。
二、主要特點：
1. 本設備系統(tǒng)主要由主體腔室（反應腔）、冷卻循環(huán)系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)（帶程序控制）四個主體部分組成。
2. 該裝置采用環(huán)場加熱方式對樣品中心處進行加熱，保證樣品處的溫度均勻；
3. 溫度控制范圍：最高使用溫度1000℃，常用溫度RT-900℃，溫度控制精度：±1℃；
4. 樣品臺采用陶瓷加工而成，熱電偶采用k 型鎧裝熱電偶，置于樣品正下方；
5. 裝置采用kapton 膜作為X 射線光窗，能夠承受不高于2 個大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境；
6. X 射線采集角度為：10<2θ<160°；
7. 配備水冷系統(tǒng)，保證主體反應腔室的溫度不高于60℃，保證實驗的安全；
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