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北京中研環(huán)科

圍繞科研 服務(wù)科研

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高溫衍射裝置(HT-XRD-500)
    發(fā)布時(shí)間: 2022-09-07 15:40    

一、產(chǎn)品簡介

原位高溫衍射反應(yīng)裝置(HT-XRD-500)是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì) 的原位樣品臺(tái),該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔(高溫爐體)、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)等多 個(gè)部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場加熱方式,確保樣品處于恒溫點(diǎn),最高使用溫度500℃。該原位 裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究,是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng) 域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。


高溫衍射裝置(HT-XRD-500)

二、主要特點(diǎn):


1. 高溫衍射反應(yīng)腔主要包括主體反應(yīng)腔、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)裝置等多個(gè)部件及相關(guān)配件;

2. 該裝置采用環(huán)境場加熱方式對(duì)樣品中心處進(jìn)行加熱,保證樣品處的溫度均勻;

3. 溫度控制范圍:RT-500℃;溫度控制精度:±1℃;

4. 樣品臺(tái)采用陶瓷加工而成,熱電偶采用k型熱電偶,置于樣品正下方;

5. 裝置采用kapton膜作為X射線光窗,能夠承受不高于2個(gè)大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境;

6. X射線采集角度為:10<2θ<160°;

7. 配備水冷系統(tǒng),保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于60℃,保證實(shí)驗(yàn)的安全;