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北京中研環(huán)科

圍繞科研 服務(wù)科研

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高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）
    發(fā)布時間: 2022-09-07 16:18    

一、產(chǎn)品簡介
高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）是一款專門為高溫條件下 探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高 溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用臺式加熱 方式，PT100 熱電阻置于樣品正下方，最高使用溫度 500℃，常壓。該原位裝置 十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、 能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。


高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）

二、主要特點：


  • 裝置系統(tǒng)主要包括主體反應(yīng)腔、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺裝置等多個部 件及相關(guān)配件； 

  • 主體真空反應(yīng)腔室內(nèi)部按照低真空要求進(jìn)行處理，加熱爐采用臺式加熱方式 對樣品進(jìn)行加熱；

  • 常用溫度控制范圍：RT-500℃，溫度控制精度：±1℃；

  • 樣品槽尺寸為：φ7*0.5mm；窗口為高分子半球窗口；

  • 配備水冷系統(tǒng)，保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于 60℃，保證實驗的安全；

  • 樣品臺采用良好導(dǎo)熱金屬加工而成，測溫采用 Pt100 熱電阻，置于樣品正下 方；

  • 常壓環(huán)境。