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北京中研環(huán)科

圍繞科研 服務(wù)科研

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高溫高壓 XRD 反應(yīng)裝置（TSSHP-XRD-500）
    發(fā)布時(shí)間: 2022-09-07 17:16    

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介
原位高溫高壓 XRD 反應(yīng)裝置（TSSHP-XRD-500）是一款專門為高溫條件下 探測(cè)樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺(tái)，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高 溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用臺(tái)式加熱 方式，PT100 熱電阻置于樣品正下方，最高使用溫度 500℃，最高使用壓力 2.5MPa。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研 究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。


高溫高壓 XRD 反應(yīng)裝置（TSSHP-XRD-500）

二、主要特點(diǎn)：


  • 裝置系統(tǒng)主要包括主體反應(yīng)腔、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)裝置等多個(gè)部 件及相關(guān)配件；

  • 主體真空反應(yīng)腔室內(nèi)部按照低真空要求進(jìn)行處理，加熱爐采用臺(tái)式加熱方式 對(duì)樣品進(jìn)行加熱；

  • 常用溫度控制范圍：RT-500℃，溫度控制精度：±1℃；

  • 樣品槽尺寸為：φ7*0.5mm；

  • 配備水冷系統(tǒng)，保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于 60℃，保證實(shí)驗(yàn)的安全；

  • 樣品臺(tái)采用良好導(dǎo)熱金屬加工而成，測(cè)溫采用 Pt100 熱電阻，置于樣品正下 方； 

  • 裝置能夠承受 2.5MPa 壓力條件和低真空環(huán)境。