北京中研環(huán)科
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一、產(chǎn)品簡介
高溫臺(tái)式加熱XRD裝置（TSS-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測(cè)樣品 物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺(tái)，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、 水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用臺(tái)式加熱方式，S 型 熱電偶置于樣品正下方，最高使用溫度 1000℃，常壓。該原位裝置十分適用于 研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng) 域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
主要特點(diǎn)：
裝置系統(tǒng)主要包括主體反應(yīng)腔、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺(tái)裝置等多個(gè)部 件及相關(guān)配件；
主體真空反應(yīng)腔室內(nèi)部按照低真空要求進(jìn)行處理，加熱爐采用臺(tái)式加熱方式 對(duì)樣品進(jìn)行加熱；
常用溫度控制范圍：RT-1000℃，溫度控制精度：±1℃；
窗口溫度很高，請(qǐng)勿用手觸摸；
配備水冷系統(tǒng)，保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于 60℃，保證實(shí)驗(yàn)的安全；
樣品臺(tái)采用良好導(dǎo)熱陶瓷加工而成，測(cè)溫采用 S 型熱電偶，置于樣品正下方；
常壓環(huán)境。 使用時(shí)需要通常壓保護(hù)氣體（惰性/還原性）
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