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北京中研環(huán)科

圍繞科研服務(wù)科研

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氣固催化原位設(shè)備

高溫衍射裝置（HT-XRD-1000）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫衍射反應(yīng)裝置（HT-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè) 計(jì)的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，最高使用溫度1000℃，常用使用溫度范圍：RT-900℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié) 構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）

氣固催化原位設(shè)備

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?一、產(chǎn)品簡介 高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用臺式加熱方式，PT100 熱電阻置于樣品正下方，最高使用溫度 500℃，常壓。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
高溫衍射裝置（HT-XRD-500）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫衍射反應(yīng)裝置（HT-XRD-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì) 的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，最高使用溫度500℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng) 域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
高溫紅外漫反射裝置（HT-DRIFTS-500）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫紅外漫反射裝置（HT-DRIFTS-500）是該原位裝置適配公司生產(chǎn)的漫反射光路系統(tǒng)，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測試；該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺、樣品架、隔熱層、加熱體等多個部件及相關(guān)配件。該裝置各個部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測量，位于樣品下方保證溫度測量的準(zhǔn)確性。裝置最終采集的溫度通過專門的應(yīng)用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數(shù)據(jù)。
高溫高壓紅外漫反射裝置（HTHP-DRIFTS-500）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 <article data-clipboard-cangjie="["root",{},["p",{"ind":{"firstLine":32,"firstLineChars":200},"rPr":{"color":"#000000","fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體"},"sz":12,"szUnit":"pt"}},["span",{"data-type":"text"},["span",{"fonts":{"ascii":"Times New Roman","eastAsia":"楷體","hAnsi":"Times New Roman","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"高溫高壓紅外漫反射"],["span",{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"裝置是"],["span",{"color":"#000000","fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"該原位裝置適配公司生產(chǎn)的漫反射光路系統(tǒng)，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測試；"]]],["p",{"ind":{"firstLine":32,"firstLineChars":200},"rPr":{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體"},"sz":12,"szUnit":"pt"}},["span",{"data-type":"text"},["span",{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺、樣品架、隔熱層、加熱體等多個部件及相關(guān)配件。"]]],["p",{"ind":{"firstLine":32,"firstLineChars":200},"rPr":{"color":"#000000","fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體"},"sz":12,"szUnit":"pt"}},["span",{"data-type":"text"},["span",{"fonts":{"ascii":"楷體","cs":"楷體","eastAsia":"楷體","hAnsi":"楷體","hint":"eastAsia"},"sz":12,"szUnit":"pt","data-type":"leaf"},"該裝置各個部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測量，位于樣品下方保證溫度測量的準(zhǔn)確性。裝置最終采集的溫度通過專門的應(yīng)用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數(shù)據(jù)。"]]]]">高溫高壓紅外漫反射裝置（HTHP-DRIFTS-500）是該原位裝置適配公司生產(chǎn)的漫反射光路系統(tǒng)，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、催化體系紅外在線測試；該裝置主要包含外殼、上蓋、樣品臺、樣品架、隔熱層、加熱體等多個部件及相關(guān)配件。該裝置各個部件合理選型，窗口及上蓋密封采用擠壓o型圈密封；溫度采用PT100測量，位于樣品下方保證溫度測量的準(zhǔn)確性。裝置最終采集的溫度通過專門的應(yīng)用軟件顯示，可顯示溫度曲線和保存數(shù)據(jù)。</article>
高溫高壓 XRD 反應(yīng)裝置（TSSHP-XRD-500）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫高壓 XRD 反應(yīng)裝置（TSSHP-XRD-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用臺式加熱方式，PT100 熱電阻置于樣品正下方，最高使用溫度 500℃，最高使用壓力 2.5MPa。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
高溫紅外/XAS 透射裝置（HT-FTIR-600K）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫紅外/XAS 透射原位反應(yīng)裝置（HT-FTIR-600K）是一款適用于高溫環(huán)境下探測樣品紅外光譜和 XAS 光譜的原位測試裝置。該裝置適用于絕大多數(shù)同步輻射光源的 X 射線吸收譜線站（XAFS）。該裝置采用環(huán)境場加熱方式對中心樣品進(jìn)行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確，常用使用溫度范圍為室溫到 600K。加熱爐體和樣品臺采用分離設(shè)計(jì)，樣品臺可隨時取出，方便實(shí)驗(yàn)操作人員的操作。此外樣品臺做了獨(dú) 特的氣路設(shè)計(jì)，能夠保證樣品的氣體表面處理，窗口采用兼具紅外和 X 射線透射的金剛石膜，保證了一套裝置的多功能光譜聯(lián)用功能。
高溫紅外10CM光程氣體池（HT-FTIR-G200）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫紅外10CM光程氣體池（HT-FTIR-G200）是一款具有特定光程的氣體紅外分析的原位檢測裝置。該原位池的光程固定為10厘米，十分適合在室溫，低壓，靜態(tài)或流動條件下進(jìn)行常規(guī)氣體和蒸氣的光譜分析。該原位池采用316不銹鋼作為池體主體材料，其內(nèi)部結(jié)構(gòu)根據(jù)紅外光譜儀光束的幾何形狀來設(shè)計(jì)，能夠保證內(nèi)部體積最小化，并使光束與樣品的相互作用最大化。最高使用溫度200℃，能夠滿足大部分的氣體和蒸汽測試需求。
高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-1000)

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-1000)是一款適用于多相反應(yīng)體系、吸脫附體系、表面反應(yīng)體系等多種不同體系的紅外在線測試的原位反應(yīng)裝置。該原位裝置采用環(huán)境場加熱方式進(jìn)行加熱，樣品溫度均勻。反應(yīng)池體內(nèi)置石英管，可提供一定的化學(xué)惰性和耐腐蝕性，避免金屬材質(zhì)在高溫條件下的催化副反應(yīng)。該裝置在 HT-FTIR-500的基礎(chǔ)上加入了更高的操作溫度，最高使用溫度可達(dá)1000°C；該原位裝置廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料及相關(guān)領(lǐng)域，特別適合于高溫氣固催化反應(yīng)、吸脫附反應(yīng)動力學(xué)及表面原位分析等研究。
高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-500)

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫氣固紅外透射裝置(HT-FTIR-500)是一款適用于高溫條件下的固體、液體-糊狀涂覆膜或氣體樣品測試的原位裝置。該裝置通過加熱體加熱的方式最高可實(shí)現(xiàn)500℃的操作溫度，常用溫度范圍：RT-500℃，溫度控制精度為±1℃。配備有2個光路窗口，適用于常規(guī)紅外透射測試。同時，配備的氣體控制閥可實(shí)現(xiàn)腔體內(nèi)部低真空的氣體條件，壓力調(diào)節(jié)范圍：真空-常壓。適用于不同研究領(lǐng)域的高溫氣固透射原位測試。
高溫CT反應(yīng)裝置（CT-700）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫CT反應(yīng)裝置（CT-700）是一款專門為研究高溫環(huán)境下探測樣品CT成像的原位測試裝置。該裝置適用于絕大多數(shù)同步輻射光源的 X 射線 CT 線站（X-CT）。該裝置采用環(huán)境場加熱方式對中心樣品進(jìn)行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確，常用使用溫度范圍為室溫到 700℃。本設(shè)備系統(tǒng)主要由加熱爐體、樣品桿、手動對光位移臺、樣品升降臺、冷卻循環(huán)系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)（帶程序控制）等主體部分組成。加熱爐體為雙爐體模式，樣品中間位置留有 360°光路口，光窗采用 Kapton 高分子膜（無耐壓能力）。整個反應(yīng)腔室外殼體均布設(shè)有水冷管路，因此，外殼體以及各類窗口的冷卻均得到了有效保護(hù)。其中，在進(jìn)行高溫實(shí)驗(yàn)過程中（ 700℃條件），外殼體本身的操作溫度不高于 60℃，窗口最高溫度不高于 200℃。溫度控制系統(tǒng)負(fù)責(zé)給反應(yīng)腔室提供升溫控制程度以及監(jiān)測反應(yīng)腔室內(nèi)部樣品處的實(shí)時溫度變化。通過計(jì)算機(jī)匹配公司提供的程序控制軟件 HTMS-SOFT1000 可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)腔室溫度的遠(yuǎn)程監(jiān)測功能，這一遠(yuǎn)程監(jiān)測功能的拓展有利于各大同步輻射光源線站的實(shí)際使用，即反應(yīng)腔室和控制器均可以放置于光束線及相應(yīng)的 Hutch 內(nèi)，而操作人員可以通過一根光纜實(shí)現(xiàn)在 Hutch 外操作原位池的溫度控制和監(jiān)測功能。
高溫氣固催化TXAS裝置（HTC-TXAS）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫氣固催化原位TXAS裝置（HTC-TXAS）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應(yīng)過程而設(shè)計(jì)的原位測試裝置。該裝置采用加熱爐方式對催化劑進(jìn)行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確。該原位裝置最高度可設(shè)置成1000℃。該裝置配備進(jìn)出氣孔，能夠?qū)ρb置整體進(jìn)行氣氛保護(hù)，同時受益于氣路設(shè)計(jì)，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。因采用的透射模式進(jìn)行數(shù)據(jù)采集，裝置兩側(cè)均設(shè)置了X射線窗口（此處窗口可多種選擇）。
高溫高壓氣固催化裝置（TC-SOFCXAS-800）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫高壓氣固多用途催化反應(yīng)裝置（TC-SOFCXAS-800）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應(yīng)過程而設(shè)計(jì)的原位測試裝置。 該裝置適用于絕大多數(shù)同步輻射光源的 X 射線吸收譜線站（XAS），并有效兼容了透射和熒光兩種采集模式。 該裝置采用環(huán)境場加熱方式對中心催化劑進(jìn)行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確，常用使用溫度范圍為室溫到 800℃。該溫度使用范圍均適用于真空和其他氧化還原性氣氛。該裝置配備進(jìn)出氣孔，能夠?qū)ρb置整體進(jìn)行氣氛保護(hù)，同時受益于氣路設(shè)計(jì)，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應(yīng)用場景中選擇對自己最為合適的反應(yīng)參數(shù)來進(jìn)行原位觀測，是這一原位裝置最大的優(yōu)勢所在。 本設(shè)備系統(tǒng)主要由主體腔室（反應(yīng)腔）、冷卻循環(huán)系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)（帶程序控制）四個主體部分組成。反應(yīng)腔室總共設(shè)置有四個光窗，其中 X 射線透射光路方向兩個，熒光出射方向一個，此三個窗口均為 X 射線入射出射窗，材質(zhì)可選擇為 Kapton 高分子膜（無耐壓能力）和高純鈹窗（耐壓 3bar）。為了方便用戶對內(nèi)部催化劑施加光照或方便用戶觀察內(nèi)部催化劑的變化情況，在入光口 45°角位置增設(shè)有一個配備藍(lán)寶石窗口的觀察窗。這一設(shè)計(jì)一方面增加了該設(shè)備的多用途功能，為潛在的光熱催化反應(yīng)用戶提供了可選項(xiàng)，另一方面，該觀察窗口的設(shè)立也為常規(guī)用戶實(shí)時觀察催化劑在高溫條件下的變化情況提供了方便。整個反應(yīng)腔室外殼體均布設(shè)有水冷管路，因此，外殼體以及各類窗口的冷卻均得到了有效保護(hù)。其中，在進(jìn)行高溫實(shí)驗(yàn)過程中（800℃條件），外殼體本身的操作溫度不高于 60℃，各類窗口最高溫度不高于 200℃。溫度控制系統(tǒng)負(fù)責(zé)給反應(yīng)腔室提供升溫控制程度以及監(jiān)測反應(yīng)腔室內(nèi)部樣品處的實(shí)時溫度變化。通過計(jì)算機(jī)匹配公司提供的程序控制軟件 HTMS-SOFT800 可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)腔室溫度的遠(yuǎn)程監(jiān)測功能，這一遠(yuǎn)程監(jiān)測功能的拓展有利于各大同步輻射光源線站的實(shí)際使用，即反應(yīng)腔室和控制器均可以放置于光束線及相應(yīng)的 Hutch 內(nèi)，而操作人員可以通過一根光纜實(shí)現(xiàn)在 Hutch 外操作原位池的溫度控制和監(jiān)測功能。
高溫高壓氣固催化裝置（HTC-MFXAS-800）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫高壓氣固多用途催化反應(yīng)裝置（HTC-MFXAS-800）是一款專門為研究高溫氣固相催化反應(yīng)過程而設(shè)計(jì)的原位測試裝置。該裝置適用于絕大多數(shù)同步輻射光源的 X 射線吸收譜線站（XAS），并有效兼容了透射和熒光兩種采集模式。該裝置采用環(huán)境場加熱方式對中心催化劑進(jìn)行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確，常用使用溫度范圍為室溫到 800℃。該溫度使用范圍均適用于真空和其他氧化還原性氣氛。該裝置配備進(jìn)出氣孔，能夠?qū)ρb置整體進(jìn)行氣氛保護(hù)，同時受益于氣路設(shè)計(jì)，能夠保證氣體始終有效通過催化劑。更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應(yīng)用場景中選擇對自己最為合適的反應(yīng)參數(shù)來進(jìn)行原位觀測，是這一原位裝置最大的優(yōu)勢所在。本設(shè)備系統(tǒng)主要由主體腔室（反應(yīng)腔）、冷卻循環(huán)系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)（帶程序控制）四個主體部分組成。反應(yīng)腔室總共設(shè)置有四個光窗，其中 X 射線透射光路方向兩個，熒光出射方向一個，此三個窗口均為 X 射線入射出射窗，材質(zhì)可選擇為 Kapton 高分子膜（無耐壓能力）和高純鈹窗（耐壓 10bar）。為了方便用戶對內(nèi)部催化劑施加光照或方便用戶觀察內(nèi)部催化劑的變化情況，在入光口 45°角位置增設(shè)有一個配備藍(lán)寶石窗口的觀察窗。這一設(shè)計(jì)一方面增加了該設(shè)備的多用途功能，為潛在的光熱催化反應(yīng)用戶提供了可選項(xiàng)，另一方面，該觀察窗口的設(shè)立也為常規(guī)用戶實(shí)時觀察催化劑在高溫條件下的變化情況提供了方便。整個反應(yīng)腔室外殼體均布設(shè)有水冷管路，因此，外殼體以及各類窗口的冷卻均得到了有效保護(hù)。其中，在進(jìn)行高溫實(shí)驗(yàn)過程中（800℃條件），外殼體本身的操作溫度不高于 60℃，各類窗口最高溫度不高于 200℃。溫度控制系統(tǒng)負(fù)責(zé)給反應(yīng)腔室提供升溫控制程度以及監(jiān)測反應(yīng)腔室內(nèi)部樣品處的實(shí)時溫度變化。通過計(jì)算機(jī)匹配公司提供的程序控制軟件 HTMS-SOFT800 可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)腔室溫度的遠(yuǎn)程監(jiān)測功能，這一遠(yuǎn)程監(jiān)測功能的拓展有利于各大同步輻射光源線站的實(shí)際使用，即反應(yīng)腔室和控制器均可以放置于光束線及相應(yīng)的 Hutch 內(nèi)，而操作人員可以通過一根光纜實(shí)現(xiàn)在 Hutch 外操作原位池的溫度控制和監(jiān)測功能。氣路系統(tǒng)則是在集成多個反應(yīng)氣閥和安全閥的基礎(chǔ)上，實(shí)現(xiàn)對反應(yīng)腔體的供氣處理及氣壓監(jiān)測功能。氣路控制箱包含有一套壓力數(shù)顯裝置和一套安全卸壓裝置，其中數(shù)顯壓力表主要起到對氣路系統(tǒng)內(nèi)部氣壓的監(jiān)控與施壓作用，卸壓裝置則是防止整個系統(tǒng)的壓力超出設(shè)備的安全設(shè)計(jì)值，一旦系統(tǒng)壓力超過安全閾值，該卸壓裝置就將主動卸壓，保證整個系統(tǒng)的壓力值一直處于安全閾值以內(nèi)。
高溫拉曼

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫拉曼反應(yīng)裝置（HT-Raman-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化二設(shè)計(jì)的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，最高使用溫度 1000℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
高溫顯微紅外原位池

氣固催化原位設(shè)備

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高溫紅外透射原位池

氣固催化原位設(shè)備

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高溫拉曼四探針原位裝置

氣固催化原位設(shè)備

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高溫拉曼原位池-500（HT-Raman-500）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 原位高溫拉曼反應(yīng)裝置（HT-Raman-500）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化二設(shè)計(jì)的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場加熱方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，最高使用溫度500℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。
高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-1000）

氣固催化原位設(shè)備

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一、產(chǎn)品簡介 高溫臺式加熱XRD裝置（TSS-XRD-1000）是一款專門為高溫條件下探測樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺，該裝置主要包含有主體反應(yīng)腔（高溫爐體）、水冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、樣品臺等多個部件及相關(guān)配件。采用臺式加熱方式，S 型熱電偶置于樣品正下方，最高使用溫度 1000℃，常壓。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng) 域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。